jù jiāo huán · ㄐㄩˋ ㄐㄧㄠ ㄏㄨㄢˊ · 更新 2026-06-30 08:59:42
聚焦环和等离子体处理装置，在可以提高处理的面内均匀性的同时，与现有技术比较，还可以减小淀积对半导体晶片的周缘部分背面一侧的发生。